雙面對準曝光機

元智大學 機械系 奈微米共同實驗室

光罩與晶圓對準曝光顯影

廠牌型號: 
M&R Nano Technology Co. AG350-4N-D-V-S-H
購買日期: 
2008年
加工精度及限制說明: 

1.功率:200W
2.光束尺寸:4″ round
3.試片最大尺寸:4″
4.最小線寬:2µm

收費標準: 

開機費:454元

額外加收13.61元/分

備註

1. 校外學術單位,基本收費 × 1.5

2. 校外營利單位,基本收費 × 3

設備照片:
關於服務提供單位
元智大學 機械系 奈微米共同實驗室
元智大學 機械系 奈微米共同實驗室
聯絡電話:03-4638800
註冊日期:2016-04-08