聚焦離子束與電子束顯微系統

南臺科技大學 電子工程系 光電與積體電路故障分析中心

聚焦式離子束顯微鏡(FIB)的利用鎵(Ga)金屬作為離子源,再加上負電場 (Extractor) 牽引尖端細小的鎵原子,而導出鎵離子束再以電透鏡聚焦,經過一連串變化孔徑 (Automatic Variable Aperture, AVA)可決定離子束的大小,再經過二次聚焦至試片表面,利用物理碰撞的原理來對樣品進行微型手術的切割,一般單束的FIB(Single Beam FIB),可以提供材料切割、沈積金屬等功能。若結合場發射式電子顯微鏡(SEM)進行即時觀測,即所謂的雙粒子束FIB(Dual Beam FIB)。
另外,因為此系統有加載X光能譜散佈分析儀 (Energy Dispersive Spectrometer, EDS)。所以可提供樣品表面或橫截面(Cross-Section)之微區定性或半定量的成份元素分析,與特定區域之Point、Line Scan、Mapping分析。

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